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產(chǎn)品目錄

氧化銦靶材In2O3磁控濺射靶材

詳細說明

    科研實驗專用氧化銦靶材In2O3磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

氧化銦(In2O3)為白色或淡黃色無定型粉末,加熱轉(zhuǎn)變?yōu)榧t褐色;是一種新的n型透明半導體功能材料,具有較寬的禁帶寬度、較小的電阻率和較高的催化活性,在光電領(lǐng)域、氣體傳感器、催化劑方面得到了廣泛應(yīng)用。而氧化銦顆粒尺寸達納米級別時除具有以上功能外,還具備了納米材料的表面效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、小尺寸效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)等。電阻式觸摸屏中經(jīng)常使用的原材料,主要用于熒光屏、玻璃、陶瓷、化學試劑等。

產(chǎn)品參數(shù)



中文名稱:氧化銦

中文別名:氧化銦(III); 三氧化二銦

英文名稱:Indium Oxide

CAS號:1312-43-2

分子式:In2O3

分子量:277.63400

精確質(zhì)量:277.79200

PSA:43.37000

外觀與性狀:白色至淡黃色粉末

密度:7.18g/cm3

熔點:2000oC

沸點:850oC

穩(wěn)定性:穩(wěn)定。 不易燃。 與酸不相容。

儲存條件:庫房通風低溫干燥

【關(guān)于我們】

服務(wù)項目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?蒲袉挝回浀礁犊,質(zhì)量保證,售后無憂!

產(chǎn)品附件:發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 

質(zhì)量控制:嚴格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質(zhì)檢報告。 

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導熱性差,連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!

我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。

注 :高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!

建議:陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

 
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